[发明专利]一种自适应模板匹配的抗遮挡跟踪方法有效

专利信息
申请号: 201710658505.0 申请日: 2017-08-04
公开(公告)号: CN107452020B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 方勇;吕江超;丁洋坤 申请(专利权)人: 河北汉光重工有限责任公司
主分类号: G06T7/223 分类号: G06T7/223
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 温子云;仇蕾安
地址: 056028*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种自适应模板匹配的抗遮挡跟踪方法,在出现严重、复杂的遮挡的情况下仍能稳定地跟踪目标,而且能够避免子模板过于敏感的问题。该方案将跟踪模板分割成若干个子模板,以子模板为组成单元,从跟踪模板内部划分出两个相互嵌套的内层子区域,称为内层1模板和内层2模板;跟踪首先从无遮挡跟踪状态开始,随着遮挡的加深依次经历内层1无遮挡跟踪状态A、内层1有遮挡预测状态;当遮挡逐渐解除,从内层1有遮挡预测状态退出后依次进入内层2无遮挡跟踪状态、内层1无遮挡跟踪状态B,最后回到无遮挡跟踪状态。在每种状态下,均根据三个模板被遮挡情况进行状态跳转判断,以及跳转方向是前进还是后退;根据所处状态进行相应模板的更新。
搜索关键词: 一种 自适应 模板 匹配 遮挡 跟踪 方法
【主权项】:
一种自适应模板匹配的抗遮挡跟踪方法,其特征在于,包括如下步骤:将跟踪模板分割成若干个n×n的子模板,n为正整数;以子模板为组成单元,从跟踪模板内部划分出两个相互嵌套的内层子区域,称为内层1模板和内层2模板;当位于外层的模板更新时,其内层模板随之更新;跟踪首先从无遮挡跟踪状态开始,随着遮挡的加深依次经历内层1无遮挡跟踪状态A、内层1有遮挡预测状态;当遮挡逐渐解除,从内层1有遮挡预测状态退出后依次进入内层2无遮挡跟踪状态、内层1无遮挡跟踪状态B,最后回到无遮挡跟踪状态;在每种状态下,均根据三个模板被遮挡情况进行状态跳转判断,以及跳转方向是前进还是后退;根据所处状态进行模板更新,其中:在无遮挡跟踪状态下以及内层1无遮挡跟踪状态B下,当需要更新跟踪模板时,更新跟踪模板;在内层1无遮挡跟踪状态A下以及内层2无遮挡跟踪状态下,当需要更新跟踪模板时,更新内层1模板;在内层1有遮挡预测状态下,停止更新模板,进行轨迹预测。
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