[发明专利]一种自适应模板匹配的抗遮挡跟踪方法有效
申请号: | 201710658505.0 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN107452020B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 方勇;吕江超;丁洋坤 | 申请(专利权)人: | 河北汉光重工有限责任公司 |
主分类号: | G06T7/223 | 分类号: | G06T7/223 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 温子云;仇蕾安 |
地址: | 056028*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种自适应模板匹配的抗遮挡跟踪方法,在出现严重、复杂的遮挡的情况下仍能稳定地跟踪目标,而且能够避免子模板过于敏感的问题。该方案将跟踪模板分割成若干个子模板,以子模板为组成单元,从跟踪模板内部划分出两个相互嵌套的内层子区域,称为内层1模板和内层2模板;跟踪首先从无遮挡跟踪状态开始,随着遮挡的加深依次经历内层1无遮挡跟踪状态A、内层1有遮挡预测状态;当遮挡逐渐解除,从内层1有遮挡预测状态退出后依次进入内层2无遮挡跟踪状态、内层1无遮挡跟踪状态B,最后回到无遮挡跟踪状态。在每种状态下,均根据三个模板被遮挡情况进行状态跳转判断,以及跳转方向是前进还是后退;根据所处状态进行相应模板的更新。 | ||
搜索关键词: | 一种 自适应 模板 匹配 遮挡 跟踪 方法 | ||
【主权项】:
一种自适应模板匹配的抗遮挡跟踪方法,其特征在于,包括如下步骤:将跟踪模板分割成若干个n×n的子模板,n为正整数;以子模板为组成单元,从跟踪模板内部划分出两个相互嵌套的内层子区域,称为内层1模板和内层2模板;当位于外层的模板更新时,其内层模板随之更新;跟踪首先从无遮挡跟踪状态开始,随着遮挡的加深依次经历内层1无遮挡跟踪状态A、内层1有遮挡预测状态;当遮挡逐渐解除,从内层1有遮挡预测状态退出后依次进入内层2无遮挡跟踪状态、内层1无遮挡跟踪状态B,最后回到无遮挡跟踪状态;在每种状态下,均根据三个模板被遮挡情况进行状态跳转判断,以及跳转方向是前进还是后退;根据所处状态进行模板更新,其中:在无遮挡跟踪状态下以及内层1无遮挡跟踪状态B下,当需要更新跟踪模板时,更新跟踪模板;在内层1无遮挡跟踪状态A下以及内层2无遮挡跟踪状态下,当需要更新跟踪模板时,更新内层1模板;在内层1有遮挡预测状态下,停止更新模板,进行轨迹预测。
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