[发明专利]转印膜结构及其制法与立体转印品及其制法有效

专利信息
申请号: 201710618201.1 申请日: 2017-07-26
公开(公告)号: CN109304955B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 吴卢汉柽;黄朝键 申请(专利权)人: 大勤化成股份有限公司
主分类号: B41M1/40 分类号: B41M1/40;B41M5/40;B42D15/00
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军;孙金瑞
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种转印膜结构包含一弹性薄膜基材层、一模板层、一第一遮光层、一第二遮光层、一填充层、一暗反应层、一第一图案层及一固定层。该模板层形成在该弹性薄膜基材层上,该第一遮光层形成在该弹性薄膜基材层上,该第二遮光层形成在该模板层上,该填充层形成在该第二遮光层上,该暗反应层形成在该填充层上,该第一图案层形成在该第一遮光层上,该固定层位在该暗反应层与该第一图案层上。本发明的转印膜结构于一物件表面所形成的立体转印图案上不会残留离型剂。
搜索关键词: 膜结构 及其 制法 立体 转印品
【主权项】:
1.一种转印膜结构,其特征在于:所述转印膜结构包含:一弹性薄膜基材层;一以第一图样形成在该弹性薄膜基材层上且由涂料形成的模板层;一以互补于该第一图样的第二图样形成在该弹性薄膜基材层上且由紫外光吸收油墨形成的第一遮光层,该第一遮光层与该模板层位在同一平面上;一以该第一图样形成在该模板层上且由紫外光吸收油墨形成的第二遮光层;一以该第一图样形成在该第二遮光层上且由透明油墨形成的填充层;一以该第一图样形成在该填充层上的暗反应层;一以该第二图样形成在该第一遮光层上且由油溶性涂料形成的第一图案层,该第一图案层与该第二遮光层、该填充层及该暗反应层接触;及一位在该暗反应层与该第一图案层上的固定层。
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