[发明专利]扫描脉冲退火装置及方法在审
申请号: | 201710606365.2 | 申请日: | 2015-06-15 |
公开(公告)号: | CN107578991A | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 阿伦·缪尔·亨特;阿米科姆·萨德;塞缪尔·C·豪厄尔斯;道格拉斯·E·霍姆格伦;布鲁斯·E·亚当斯;西奥多·P·莫菲特;斯蒂芬·莫法特 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268;H01L21/67;B23K26/00;B23K26/0622;B23K26/073;B23K26/08;B23K26/70 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金国,赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于热处理基板的装置、系统及方法。脉冲电磁能量源能以至少100Hz的频率产生脉冲。可移动基板支撑件可相对于电磁能量脉冲移动基板。光学系统可设置在能量源和可移动基板支撑件之间,且可包含将电磁能量脉冲塑形成矩形分布的部件。控制器可命令所述电磁能量源以选定的脉冲频率产生能量脉冲。所述控制器也可命令所述可移动基板支撑件以选定的速度在平行于所述矩形分布的选定的边缘的方向上进行扫描,使得沿着平行于所述选定的边缘的直线上的每个点接收预定数量的电磁能量脉冲。 | ||
搜索关键词: | 扫描 脉冲 退火 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于热处理基板的装置,所述装置包括:能量输入模块,所述能量输入模块具有多个脉冲激光源并产生多个激光脉冲;脉冲控制模块,所述脉冲控制模块具有一个或多个脉冲控制器,所述一个或多个脉冲控制器将所述多个脉冲激光源的单个脉冲组合为组合激光脉冲;脉冲塑形模块,所述脉冲塑形模块具有一个或多个脉冲塑形器,所述脉冲塑形器调整所述组合激光脉冲的时间分布;均化器,所述均化器调整所述组合激光脉冲的空间能量,并将所述组合激光脉冲重叠成为均匀能量场;孔构件,所述孔构件从所述均匀能量场去除剩余的边缘不均匀性;对齐模块,所述对齐模块允许所述均匀能量场与在基板支撑件上的位置对齐;以及控制器,所述控制器耦合所述能量输入模块以控制所述激光脉冲的产生。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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