[发明专利]像素结构及其制作方法有效
| 申请号： | 201710581962.4 | 申请日： | 2017-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN108346677B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李耘 | 申请（专利权）人： | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 向薇 |
| 地址： | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种像素结构及其制作方法。该像素结构包括：基板；层叠于所述基板之上的底层；层叠于所述基板和/或所述底层之上的像素界定层，所述像素界定层设有与预设像素区域相对应的像素腔，所述底层位于所述像素腔的底部；所述像素腔内设有隔断，所述隔断将所述像素腔分隔为若干子像素腔；所述子像素腔包括由所述像素腔的内壁与所述隔断的侧壁围成的第一子像素腔；在所述第一子像素腔中，功能层墨水与所述隔断的侧壁的接触角α，大于所述功能层墨水与所述像素腔的内壁的接触角β；所述底层的厚度由所述像素腔的内壁向所述隔断的侧壁方向逐渐减薄。本发明的像素结构，能够改善并优化成膜效果，使制得的功能层厚度均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 隔断 像素结构 子像素 功能层 侧壁 基板 内壁 像素界定层 接触角 墨水 成膜效果 厚度均匀 像素区域 分隔 减薄 预设 制作 优化 | ||
【主权项】：
1.一种像素结构，其特征在于，包括：基板；层叠于所述基板之上的底层；层叠于所述基板和/或所述底层之上的像素界定层，所述像素界定层设有与预设像素区域相对应的像素腔，所述底层位于所述像素腔的底部；所述像素腔内设有隔断，所述隔断将所述像素腔分隔为若干子像素腔；所述子像素腔包括由所述像素腔的内壁与所述隔断的侧壁围成的第一子像素腔；在所述第一子像素腔中，功能层墨水与所述隔断的侧壁的接触角α，大于所述功能层墨水与所述像素腔的内壁的接触角β；所述底层的厚度由所述像素腔的内壁向所述隔断的侧壁方向逐渐减薄。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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