[发明专利]真空成膜装置有效
| 申请号： | 201710549204.4 | 申请日： | 2017-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN107587104B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 河野贵志;石井博;佐藤智之 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 朱龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空成膜装置，其能够以简易的结构抑制以真空槽的槽壁的变形为起因的基板与掩模之间的位置偏离。该真空成膜装置具备真空槽(1)、设置在该真空槽(1)内的基板支承体(3)及掩模支承体(5)、设置在真空槽(1)外且用于调整由基板支承体(3)支承的基板(2)与由掩模支承体(5)支承的掩模(4)的相对位置的对准机构(6)，其中具有第一固定构件(7)和第二固定构件(8)，该第一固定构件设置连接有基板支承体(3)的对准机构(6)且抵接固定于真空槽(1)的槽壁外表面，该第二固定构件设置掩模支承体(5)且抵接固定于真空槽(1)的槽壁内表面，第一固定构件(7)的与槽壁外表面抵接的抵接端部(9)和第二固定构件(8)的与槽壁内表面抵接的抵接端部(10)隔着槽壁设置在相对位置。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种真空成膜装置，所述真空成膜装置具备：真空槽、设置在该真空槽内的对基板进行支承的基板支承体及对掩模进行支承的掩模支承体、和对准机构，该对准机构设置在所述真空槽外，用于调整由所述基板支承体支承的基板与由所述掩模支承体支承的掩模的相对位置，其特征在于，所述真空成膜装置具有第一固定构件和第二固定构件，所述第一固定构件设置所述对准机构且抵接固定于所述真空槽的槽壁外表面，所述对准机构连接所述基板支承体，所述第二固定构件设置所述掩模支承体且抵接固定于所述真空槽的槽壁内表面，所述第一固定构件的与所述槽壁外表面抵接的抵接端部和所述第二固定构件的与所述槽壁内表面抵接的抵接端部隔着所述槽壁设置在相对位置。
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