[发明专利]真空成膜装置

权利要求书

1.一种真空成膜装置，所述真空成膜装置具备：真空槽、设置在该真空槽内的对基板进行支承的基板支承体及对掩模进行支承的掩模支承体、和对准机构，该对准机构设置在所述真空槽外，用于调整由所述基板支承体支承的基板与由所述掩模支承体支承的掩模的相对位置，其特征在于，

所述真空成膜装置具有第一固定构件和第二固定构件，所述第一固定构件设置所述对准机构且抵接固定于所述真空槽的槽壁外表面，所述对准机构连接所述基板支承体，所述第二固定构件设置所述掩模支承体且抵接固定于所述真空槽的槽壁内表面，所述第一固定构件的与所述槽壁外表面抵接的抵接端部和所述第二固定构件的与所述槽壁内表面抵接的抵接端部隔着所述槽壁设置在相对位置。

2.根据权利要求1所述的真空成膜装置，其特征在于，

所述第一固定构件及所述第二固定构件的隔着所述槽壁设置在相对位置的抵接端部被设置多组。

3.根据权利要求1或2所述的真空成膜装置，其特征在于，

所述第一固定构件及所述第二固定构件的隔着所述槽壁设置在相对位置的抵接端部分别被设定成如下的形状：在将一方的所述抵接端部的抵接端面向另一方的所述抵接端部所抵接的槽壁面进行投影的投影面内，收纳所述另一方的抵接端部的抵接端面。