[发明专利]真空成膜装置

说明书

本发明提供一种真空成膜装置，其能够以简易的结构抑制以真空槽的槽壁的变形为起因的基板与掩模之间的位置偏离。该真空成膜装置具备真空槽(1)、设置在该真空槽(1)内的基板支承体(3)及掩模支承体(5)、设置在真空槽(1)外且用于调整由基板支承体(3)支承的基板(2)与由掩模支承体(5)支承的掩模(4)的相对位置的对准机构(6)，其中具有第一固定构件(7)和第二固定构件(8)，该第一固定构件设置连接有基板支承体(3)的对准机构(6)且抵接固定于真空槽(1)的槽壁外表面，该第二固定构件设置掩模支承体(5)且抵接固定于真空槽(1)的槽壁内表面，第一固定构件(7)的与槽壁外表面抵接的抵接端部(9)和第二固定构件(8)的与槽壁内表面抵接的抵接端部(10)隔着槽壁设置在相对位置。

技术领域

本发明涉及真空成膜装置。

背景技术

在真空成膜装置中，近年来，由于与基板的大型化相伴的真空槽的大型化，从而真空时的真空槽的槽壁的变形增大。

因此，即使在真空槽内为大气压的状态下调整(对准)基板与掩模的位置关系，在真空槽内为真空时由于槽壁的变形，基板与掩模的位置关系也会产生偏离，有时会给基板与掩模的对准精度造成影响。

图1示出大气时的真空成膜装置，图2示出真空时的真空成膜装置。A是对基板进行支承的基板支承体，B是对掩模C进行支承的掩模支承体，D是真空槽，E是蒸发源，F是将基板支承体A固定于真空槽D的固定构件，G是将掩模支承体B固定于真空槽D的固定构件，H是进行基板与掩模的位置调整的对准机构。

如图1及图2所图示那样，基板支承体A及掩模支承体B都经由固定构件F、G而固定在真空槽D的槽壁的分别不同的位置。然而，槽壁的变形的程度因位置而不同，因此基板支承体A的点a处的位移量与掩模支承体B的点b处的位移量分别不同，相应于该位移量的差量δ而掩模与基板支承面的间隔I和I’产生差别。

即，以所述位移量的差量δ为起因而存在基板支承体A及掩模支承体B的位置关系偏离且支承于它们的基板及掩模产生位置偏离的情况。

因此，例如在专利文献1中，将设有基板支承体及掩模支承体的对准机构载置于在真空槽的上方设置的支承板，在支承板与真空槽的顶板之间设置使该支承板与真空槽的顶板分离的腿部，由此抑制基板与掩模之间的位置偏离。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2012-33468号公报

发明内容

【发明要解决的课题】

然而，专利文献1公开的结构是在对准机构设置基板支承体及掩模支承体这双方的结构，需要将它们一并设置在真空槽的上方，因此对准机构大型化、复杂化，成本升高不可避免，并且不现实。

本发明鉴于上述的现状而作出，提供一种真空成膜装置，其能够以简易的结构抑制以真空槽的槽壁的变形为起因的基板与掩模之间的位置偏离。

【用于解决课题的方案】

一种真空成膜装置，其具备：真空槽、设置在该真空槽内的对基板进行支承的基板支承体及对掩模进行支承的掩模支承体、和对准机构，该对准机构设置在所述真空槽外，用于调整由所述基板支承体支承的基板与由所述掩模支承体支承的掩模的相对位置，其特征在于，所述真空成膜装置具有第一固定构件和第二固定构件，所述第一固定构件设置所述对准机构且抵接固定于所述真空槽的槽壁外表面，所述对准机构连接所述基板支承体，所述第二固定构件设置所述掩模支承体且抵接固定于所述真空槽的槽壁内表面，所述第一固定构件的与所述槽壁外表面抵接的抵接端部和所述第二固定构件的与所述槽壁内表面抵接的抵接端部隔着所述槽壁设置在相对位置。

【发明效果】