[发明专利]一种QLED器件的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710542313.3 申请日: 2017-07-05
公开(公告)号: CN109216568A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 王宇;曹蔚然;钱磊 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种QLED器件的制备方法。通过对量子点发光层进行高压处理,使其形成致密的薄膜,所述纳米材料在高压作用下产生一定的结晶化作用,继而提高量子点发光层的载流子传输速率。进一步的,通过对功能传输层进行高压处理,使QLED器件中的各功能层之间,功能传输层与量子点发光层之间结合的更紧密,减少了界面之间的缺陷,降低了非辐射复合,进一步的提高了载流子的注入效率和复合发光的效率。
搜索关键词: 发光层 量子点 高压处理 传输层 制备 载流子 致密 非辐射复合 结晶化作用 载流子传输 复合发光 高压作用 纳米材料 注入效率 功能层 薄膜
【主权项】:
1.一种QLED器件的制备方法,其特征在于,包括当量子点发光层完成沉积后,在惰性环境下,对所述量子点发光层进行高压处理的步骤。
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