[发明专利]薄膜晶体管及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710456964.0 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN107240610B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 冯佑雄 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王晓燕 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板及其制备方法、以及显示装置。该薄膜晶体管的制备方法包括：在衬底基板上形成有源层；在所述有源层上方形成栅极，该栅极与所述有源层绝缘；以栅极为掩模对所述有源层进行第一次掺杂；在所述栅极上方形成金属层，该金属层与所述栅极绝缘并具有突出部，所述栅极在所述衬底基板上的正投影为第一投影，所述金属层在所述衬底基板上的正投影为第二投影，在所述金属层的所述突出部对应的区域处所述第二投影突出于所述第一投影；以及以所述金属层为掩模对所述有源层进行第二次掺杂。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管的制备方法，包括：在衬底基板上形成有源层；在所述有源层上方形成栅极，该栅极与所述有源层绝缘；以栅极为掩模对所述有源层进行第一次掺杂；在所述栅极上方形成金属层，该金属层与所述栅极绝缘并具有突出部，所述栅极在所述衬底基板上的正投影为第一投影，所述金属层在所述衬底基板上的正投影为第二投影，在所述金属层的所述突出部对应的区域处所述第二投影突出于所述第一投影；以及以所述金属层为掩模对所述有源层进行第二次掺杂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710456964.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
