[发明专利]薄膜晶体管及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置有效
申请号: | 201710456964.0 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107240610B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 冯佑雄 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王晓燕 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制备 方法 显示 显示装置 | ||
一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板及其制备方法、以及显示装置。该薄膜晶体管的制备方法包括:在衬底基板上形成有源层;在所述有源层上方形成栅极,该栅极与所述有源层绝缘;以栅极为掩模对所述有源层进行第一次掺杂;在所述栅极上方形成金属层,该金属层与所述栅极绝缘并具有突出部,所述栅极在所述衬底基板上的正投影为第一投影,所述金属层在所述衬底基板上的正投影为第二投影,在所述金属层的所述突出部对应的区域处所述第二投影突出于所述第一投影;以及以所述金属层为掩模对所述有源层进行第二次掺杂。
技术领域
本公开的实施例涉及一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板及其制备方法、以及显示装置。
背景技术
通常,显示基板包括排列成矩阵的多个像素单元,每个像素单元包括显示电极和对显示电极进行驱动的薄膜晶体管。薄膜晶体管包括栅极、有源层、源电极和漏电极,有源层包括沟道区和分别位于沟道区两侧的源极区和漏极区。例如,源极区和漏极区为重掺杂区。为了减小薄膜晶体管的漏电流,例如可以在源极区与沟道区之间以及漏极区与沟道区之间设置轻掺杂区。然而,目前制作轻掺杂区的工艺太过复杂,有些生产者为了节省成本甚至不制作轻掺杂区。
发明内容
根据本公开的实施例,提供一种薄膜晶体管的制备方法。该薄膜晶体管的制备方法包括:在衬底基板上形成有源层;在所述有源层上方形成栅极,该栅极与所述有源层绝缘;以栅极为掩模对所述有源层进行第一次掺杂;在所述栅极上方形成金属层,该金属层与所述栅极绝缘并具有突出部,所述栅极在所述衬底基板上的正投影为第一投影,所述金属层在所述衬底基板上的正投影为第二投影,在所述金属层的所述突出部对应的区域处所述第二投影突出于所述第一投影;以及以所述金属层为掩模对所述有源层进行第二次掺杂。
例如,除所述金属层的所述突出部所对应的区域之外所述第一投影与所述第二投影重合。
例如,所述第一投影位于所述第二投影的内侧。
例如,所述有源层在所述衬底基板上的投影为第三投影,除所述有源层的要被所述第二次掺杂进行掺杂的部分之外所述第二投影和所述第三投影重合。
例如,所述第二投影和所述第三投影均为S形。
例如,在所述栅极和所述金属层之间具有层间绝缘层,并且所述方法还包括形成过孔,该过孔贯穿所述金属层和所述层间绝缘层以露出所述栅极的一部分。
例如,所述第一次掺杂的掺杂类型与所述第二次掺杂的类型相同;所述有源层包括沟道区、第一掺杂区和第二掺杂区,所述第一掺杂区位于所述沟道区和所述第二掺杂区之间;并且所述沟道区在所述第一次掺杂和所述第二次掺杂中均未被掺杂,所述第一掺杂区在所述第一次掺杂中被掺杂,所述第二掺杂区在所述第一次掺杂和所述第二次掺杂两者中被掺杂。
例如,所述制备方法还包括形成源电极和漏电极,所述源电极与所述第二掺杂区连接。
例如,所述薄膜晶体管用于显示基板,并且所述金属层与所述源电极连接。
例如,所述第一次掺杂的掺杂浓度小于所述第二次掺杂的掺杂浓度。
根据本公开的实施例,提供一种显示基板的制备方法。该显示基板的制备方法包括:采用根据如上所述的制备方法制作薄膜晶体管;以及制作发光二极管,其中,所述薄膜晶体管的漏电极连接到发光二极管,所述薄膜晶体管的源电极以及所述金属层连接到电源线。
例如,在所述栅极和所述金属层之间具有层间绝缘层,所述栅极、所述层间绝缘层和所述金属层构成电容。
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