[发明专利]一种基于自适应区域投射的单像素成像方法有效

专利信息
申请号: 201710445901.5 申请日: 2017-06-14
公开(公告)号: CN109087348B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 姜宏志;赵慧洁;朱曙光;刘颢 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G06T7/521 分类号: G06T7/521;G06T17/00;G01B11/00;G01B11/24;G01B11/25
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摘要: 一种基于自适应区域投射的单像素成像方法,用于提高单像素成像的速度。该方法首先利用条纹投射器向物体投射横向和纵向正弦条纹,获得所需的场景图像的二维傅立叶系数;然后由傅立叶切片原理,得到场景图像在图像域中横纵坐标轴上的投影;接着使用边缘提取算法,确定物体区域在场景中的尺寸和位置;最后对物体所在区域进行单像素成像,重建物体图像。该方法可以根据物体区域的大小自动调节成像区域的位置和大小,进而减少成像时间,在成像质量不变的情况下大幅提高成像速度。
搜索关键词: 一种 基于 自适应 区域 投射 像素 成像 方法
【主权项】:
1.一种基于自适应区域投射的单像素成像方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)利用条纹投射器向物体投射分别投射横纵方向正弦条纹,进而分别获得场景图像在傅立叶域中横纵坐标轴上的二维傅立叶系数;(2)根据傅立叶切片原理,由获得的傅立叶系数得到场景图像在图像域中横纵坐标轴上的投影;(3)使用区域定位算法,由场景图像在图像域中横纵坐标轴上的投影定位场景中物体区域的尺寸和位置;(4)条纹投射器向物体区域处投射与其尺寸相同的条纹,对物体所在区域进行单像素成像,重建物体图像。
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