[发明专利]投射镜头、投射曝光设备和投射曝光方法有效
| 申请号： | 201880034844.4 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN110998447B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | A.埃普勒;D.谢弗 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种折射投射镜头(PO)，该折射投射镜头(PO)使用汞蒸气灯(LS)的电磁辐射将布置在投射镜头的物平面(OS)中的图案再现到投射镜头的像平面(IS)中，所述折射投射镜头具有：多个透镜元件，该多个透镜元件沿光轴(AX)安装在物平面(OS)和像平面(IS)之间，并且设计为使安装在物平面中的图案(PAT)使用透镜以缩小的成像比例可以再现到像平面中。该镜头包括由具有相对较低阿贝数的第一材料构成的第一透镜和由具有相较于第一材料更高阿贝数的第二材料构成的第二透镜。投射镜头仅包括以下透镜组：在物平面(OS)之后具有正光学能力的第一透镜组(LG1)；在第一透镜组(LG1)之后具有负光学能力的第二透镜组(LG2)，以用于在物平面和像平面之间生成大约区域最小边缘束高度的大小；第三透镜组(LG3)，该第三透镜组(LG3)在第二透镜组与适合于安装孔径光阑(AS)的光圈位置(BP)之间、在第二透镜组(LG2)之后具有正光学能力；以及在光圈位置(BP)和像平面之间具有正光学能力的第四透镜组(LG4)。将所述第一透镜和所述第二透镜组合，使得对于汞蒸气灯的至少两个发射线的波长范围同时校正成像像差。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 镜头 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
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