[发明专利]一种成膜设备及其原位清洗方法

摘要

本发明公开了一种成膜设备，包括排气模块、反应腔室、主进气单元、副进气单元、成膜控制模块和清洗控制模块，成膜设备进行原位清洗时，保持反应腔室处于清洗温度，含有水汽的氮气先进入反应腔室，并且水汽吸附在待清洗的颗粒物上，含有清洗气体的氮气再进入反应腔室，清洗气体溶于待清洗的颗粒物吸附的水汽中生成对应的酸，生成的酸与待清洗颗粒物反应生成清洗化合物和水，清洗化合物在清洗温度下升华为气体通过所述排气模块排出。本发明提供的一种成膜设备及其清洗方法，可以定期对成膜设备进行原位清洗，且清洗工艺简单快速。

主权项

1.一种成膜设备，包括排气模块、反应腔室、主进气单元、副进气单元和成膜控制模块，所述副进气单元包括副进气管道和安装在副进气管道上控制氮气进入反应腔室的阀门A和控制含有水汽的氮气进入反应腔室的阀门B，主进气单元包括主进气管道和安装在主进气管道上控制含有成膜源的氮气进入反应腔室的阀门C和控制氮气进入反应腔室的阀门D；其特征在于，还包括控制含有清洗气体的氮气进入反应腔室的阀门E和清洗控制模块，所述清洗控制模块控制含有水汽的氮气和含有清洗气体的氮气进入反应腔室，实现反应腔室的原位清洗，在原位清洗过程中，所述清洗气体溶于水生成对应的酸，所述酸与待清洗的颗粒物反应生成清洗化合物和水，所述清洗化合物在清洗温度下升华为气体通过所述排气模块排出。