[发明专利]一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法

摘要

本发明属于印迹分子聚合物技术领域，尤其是一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，解决了现有技术中制备方法复杂，制备的印迹高分子聚合物膜选择性和亲和性差，印迹效率低、合成能力不可控的问题，所述制备方法指将模板分子、功能单体加、N,N‑二甲基甲酰胺和三氯甲烷、交联剂和自由基引发剂反应后与纳米二氧化钛/碳纳米管溶胶混合得混合液，将分离膜材料浸泡于混合液中，得含模板分子的聚合物膜，经洗脱得到印迹高分子聚合物膜。本发明制备方法简单，印迹效率高，制备的印迹高分子聚合物膜对苯及苯的同系物具有极好的选择性和亲和性，且具有吸附性能好，可控合成能力的优点，应用前景广阔。

主权项

一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、按质量比1～1.4:7.2～9.5将模板分子与功能单体加入到经分子筛脱水的N,N‑二甲基甲酰胺和三氯甲烷的混合液中，加入交联剂和自由基引发剂，常温下搅拌混合8～15min后，超声溶解25～40min，并加热至58～76℃，反应16～24h，得到含有模板分子的聚合物；S2、将质量比为3～5:1～1.5的纳米二氧化钛和碳纳米管溶于总量6～8倍的溶剂中，加入混合溶液总量0.1～0.18倍的硝酸溶液，搅拌反应1～2h，得到二氧化钛/碳纳米管溶胶；S3、按质量比1:2～2.7将步骤S1制得的含有模板分子的聚合物加入到步骤S2中所得的二氧化钛/碳纳米管溶胶中，在振荡器中加热45～65℃并震荡反应20～40min，得均匀混合液；S4、将分离膜材料完全浸泡在步骤S3中所得的均匀混合液中，浸泡10～12h后取出，置于真空干燥箱内，在65～82℃下干燥8～12h，得含模板分子的聚合物膜；S5、将步骤S4中所得的含模板分子的聚合物膜完全浸泡在洗脱液中，浸泡1.5～2.5h，然后索氏抽提至洗净模板分子，然后置于真空干燥箱内，在75～90℃的环境下，真空干燥至恒重，即得所需的可控合成能力的印迹高分子聚合物膜。