[发明专利]一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法

权利要求书

1.一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、按质量比1～1.4:7.2～9.5将模板分子与功能单体加入到经分子筛脱水的N,N-二甲基甲酰胺和三氯甲烷的混合液中，加入交联剂和自由基引发剂，常温下搅拌混合8～15min后，超声溶解25～40min，并加热至58～76℃，反应16～24h，得到含有模板分子的聚合物；

S2、将质量比为3～5:1～1.5的纳米二氧化钛和碳纳米管溶于总量6～8倍的溶剂中，加入混合溶液总量0.1～0.18倍的硝酸溶液，搅拌反应1～2h，得到二氧化钛/碳纳米管溶胶；

S3、按质量比1:2～2.7将步骤S1制得的含有模板分子的聚合物加入到步骤S2中所得的二氧化钛/碳纳米管溶胶中，在振荡器中加热45～65℃并震荡反应20～40min，得均匀混合液；

S4、将分离膜材料完全浸泡在步骤S3中所得的均匀混合液中，浸泡10～12h后取出，置于真空干燥箱内，在65～82℃下干燥8～12h，得含模板分子的聚合物膜；

S5、将步骤S4中所得的含模板分子的聚合物膜完全浸泡在洗脱液中，浸泡1.5～2.5h，然后索氏抽提至洗净模板分子，然后置于真空干燥箱内，在75～90℃的环境下，真空干燥至恒重，即得所需的可控合成能力的印迹高分子聚合物膜。

2.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的模板分子为苯及苯的同系物，优选苯、甲苯、乙苯、溴苯、硝基苯、苯磺酸、二甲苯或三硝基甲苯中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的功能单体为甲基丙烯酸甲酯、α-甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酸甲酯、十二烷基甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯和丙烯酸烷基酯中的一种或任意两种混合液。

4.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的N,N-二甲基甲酰胺和三氯甲烷的混合液的加入量为模板分子与功能单体总量的2.8～4.4倍，其中N,N-二甲基甲酰胺和三氯甲烷的质量比为1～3:1～5。

5.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯、三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯或季戊四醇四甲基丙烯酸酯中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中的自由基引发剂过硫酸钾、过硫酸钠、过硫酸铵、过氧化苯甲酰、过氧化环己酮或过氧化二碳酸二异丙酯中的一种，优选过硫酸钾和过硫酸铵。

7.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中交联剂加入量为模板分子量的0.55～0.72倍，自由基引发剂的加入量为模板分子量的0.8～1.2倍。

8.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中溶剂为质量比为1:2.5～4:1.4～2钛酸正丁酯、乙醇和水的混合液。

9.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S4中的分离膜材料为多孔氧化锌薄膜。

10.根据权利要求1所述的一种可控合成能力的印迹高分子聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S5中的洗脱液为质量比为1:0.2～0.8:0.05～0.1的乙醇、乙二醇甲醚和丙酮的混合液。