[发明专利]一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法

摘要

本发明公开了一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法，包括步骤：S1、获取并建立三维曲面与二维参数区域之间的空间映射关系；S2、在平面参数区域内规划行切进给路径；S3、计算行切进给路径位置在参数域两个方向上的映射拉伸系数，自适应地调节沿行切路径进给的二维摆线的步距值与半径值；S4、根据自适应的二维摆线的步距与半径，以行切进给路径为引导线，通过不断迭代生成二维摆线轨迹以覆盖整个平面参数区域；S5、将所述二维摆线轨迹逆映射回三维曲面，获得三维类摆线抛光轨迹。本发明的抛光轨迹生成方法能够利用摆线轨迹的多方向性以避免产生周期性的抛光痕迹，可提高自由曲面抛光的均匀性，从而提升加工工件的表面质量。

主权项

一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、获取工件模型的曲面信息，利用几何处理方法将三维模型曲面映射变换到平面参数区域，建立三维曲面与二维参数区域之间的空间映射关系；S2、在步骤S1所建立的平面参数区域内规划行切进给路径；S3、根据步骤S1所建立的空间映射关系，计算行切进给路径位置在参数域两个方向上的映射拉伸系数，自适应地调节沿行切路径进给的二维摆线的步距值与半径值，使得抛光轨迹在三维曲面上分布均匀；S4、根据步骤S3所计算的自适应的二维摆线的步距与半径，以步骤S2所规划的行切进给路径为引导线，通过不断迭代生成二维摆线轨迹以覆盖整个平面参数区域；S5、将步骤S4所生成的二维摆线轨迹逆映射回三维曲面，获得三维类摆线抛光轨迹。