[发明专利]一种非极性面量子点发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710429863.4 申请日: 2017-06-08
公开(公告)号: CN107170862B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 赵桂娟;汪连山;李辉杰;孟钰淋;吉泽生;李方政;魏鸿源;杨少延;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/06;H01L33/32
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种非极性面量子点发光二极管,包括衬底及依次叠置于所述衬底上的、均为非极性面的u型GaN层、n型GaN层、有源区、p型电子阻挡层及p型GaN层,其中:有源区包括周期分布的、非极性面的InGaN量子点势阱层和GaN势垒层。以及一种非极性面量子点发光二极管的制备方法。在衬底上依次叠置非极性面的外延结构,一方面可消除量子限制斯塔克效应对器件的内量子效率的影响,有效的消除极化效应;另一方面,此晶面取向的发光二极管的发光波长可以延伸到深绿光,甚至橙光区,能缓解当今化合物半导体发光器件中的“绿隙”(green gap)问题。
搜索关键词: 一种 极性 量子 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种非极性面量子点发光二极管,包括衬底及依次叠置于所述衬底上的、均为非极性面的u型GaN层、n型GaN层、有源区、p型电子阻挡层及p型GaN层,其中:所述有源区包括周期分布的、非极性面的InGaN量子点势阱层和GaN势垒层;所述InGaN量子点势阱层和GaN势垒层的周期为3~15个;所述InGaN量子点势阱层中,量子点的密度、尺寸及InGaN材料中In的组分与所述非极性面量子点发光二极管的发光波长相匹配;所述InGaN量子点势阱层采用S‑K模式生长,量子点的密度为5×108~1×1012cm‑2、直径为10~100nm、高度为2~12nm;InGaN材料中In的组分为0.3~0.6。
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