[发明专利]阵列基板及其制备方法和显示装置

摘要

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种阵列基板、阵列基板的制备方法和显示装置。该阵列基板包括依次设置在基板上的第一膜层和第二膜层，所述第二膜层划分为第二膜层去除区和第二膜层保留区，所述第一膜层在对应着所述第二膜层去除区的区域设置有垫高部。本发明中的阵列基板，能有效解决在阵列基板制备工艺中某一层图形在湿法刻蚀过程中，因存在刻蚀液和图形材料在一些封闭空间或两线形成的狭窄间隙内容易出现浸润不够彻底，影响最终的阵列基板的良率的问题。

主权项

1.一种阵列基板，其特征在于，包括依次设置在基板上的第一膜层和第二膜层，所述第二膜层划分为第二膜层去除区和第二膜层保留区，所述第一膜层在对应着所述第二膜层去除区的区域设置有垫高部。