[发明专利]一种提升碱性蚀刻均匀性的方法在审
| 申请号： | 201710409114.5 | 申请日： | 2017-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN107155264A | 公开（公告）日： | 2017-09-12 |
| 发明（设计）人： | 徐文中;张柳;李江;张义兵 | 申请（专利权）人： | 江门崇达电路技术有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 529000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提升碱性蚀刻均匀性的方法，在生产板上用正片工艺制作外层线路过程中，用碱性蚀刻液对生产板进行蚀刻前，先进行补偿蚀刻的步骤，所述补偿蚀刻是用碱性蚀刻子液对生产板进行喷淋蚀刻，所述补偿蚀刻的上喷和下喷压力均为2.0‑3.0kg/cm2；碱性蚀刻时，按入板方向，碱性蚀刻缸中间60％的区域的上喷压力为2.6kg/cm2，两侧的各20％区域的上喷压力为2.1kg/cm2，本发明方法在碱性蚀刻前增加补偿蚀刻步骤，并调整碱性蚀刻压力分布，提升了线路的蚀刻均匀性，且生产品质稳定，降低了报废率进而降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提升 碱性 蚀刻 均匀 方法 | ||
【主权项】：
一种提升碱性蚀刻均匀性的方法，其特征在于，在生产板上用正片工艺制作外层线路过程中，用碱性蚀刻液对生产板进行蚀刻前，先进行补偿蚀刻的步骤，所述补偿蚀刻是用碱性蚀刻子液对生产板进行喷淋蚀刻，所述补偿蚀刻的上喷和下喷压力均为2.0‑3.0kg/cm2。
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