[发明专利]用于处理工件的等离子体反应装置在审
| 申请号： | 201710407698.2 | 申请日： | 2017-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN108987228A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 李兴存 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于处理工件的等离子体反应装置，其包括电子束产生腔、过滤装置和工艺腔，其中，电子束产生腔位于工艺腔的外部，且通过过滤装置与工艺腔相连通，并且电子束产生腔包括电感耦合等离子体源，该电感耦合等离子体源用于产生第一等离子体；过滤装置用于使第一等离子体在经过过滤装置进入工艺腔时，形成电子束，该电子束用于激励工艺腔内的工艺气体产生第二等离子体，该第二等离子体用于处理工件。本发明提供的用于处理工件的等离子体反应装置，其可以降低电子温度，从而可以解决因电子温度过高引起的晶片表面损伤的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺腔 等离子体 处理工件 过滤装置 等离子体反应装置 电子束产生 电子束 电感耦合等离子体源 工艺气体 晶片表面 温度过高 损伤 外部 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理工件的等离子体反应装置，其特征在于，包括电子束产生腔、过滤装置和工艺腔，其中，所述电子束产生腔位于所述工艺腔的外部，且通过所述过滤装置与所述工艺腔相连通，并且所述电子束产生腔包括电感耦合等离子体源，所述电感耦合等离子体源用于产生第一等离子体；所述过滤装置用于使所述第一等离子体在经过所述过滤装置进入所述工艺腔时，形成电子束；所述电子束用于激励所述工艺腔内的工艺气体产生第二等离子体，所述第二等离子体用于处理工件。
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