[发明专利]阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置

摘要

一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置。该阵列基板的制作方法包括：提供衬底基板；在衬底基板上形成半导体层；在半导体层上沉积刻蚀阻挡层材料；在刻蚀阻挡层材料上形成掩模图案；以掩模图案为掩模对刻蚀阻挡层材料采用湿法刻蚀以形成刻蚀阻挡层；以掩模图案为掩模对半导体层采用干法刻蚀以形成有源层，其中，有源层包括第一区域以及围绕第一区域的第二区域，刻蚀阻挡层在衬底基板上的正投影与有源层的第一区域在衬底基板上的正投影完全重合。采用该制作方法，既可以增大开态电流和电子迁移率，也可以避免数据线与栅线或者公共电极线之间发生短路，从而提升产品的良率。

主权项

一种阵列基板的制作方法，包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成半导体层；在所述半导体层上沉积刻蚀阻挡层材料；在所述刻蚀阻挡层材料上形成掩模图案；以所述掩模图案为掩模对所述刻蚀阻挡层材料采用湿法刻蚀以形成刻蚀阻挡层；以所述掩模图案为掩模对所述半导体层采用干法刻蚀以形成有源层，其中，所述有源层包括第一区域以及围绕所述第一区域的第二区域，所述刻蚀阻挡层在所述衬底基板上的正投影与所述有源层的第一区域在所述衬底基板上的正投影完全重合。