[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示面板有效
| 申请号： | 201710348413.2 | 申请日： | 2017-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN107425076B | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 刘珠林;王孝林;汪锐 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/417;H01L27/12;H01L21/34 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开是关于一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示面板，该方法包括：衬底基板；设于所述衬底基板上的栅极金属层；设于所述栅极金属层上的栅极绝缘层；设于所述栅极绝缘层上的有源层图案；设于所述有源层图案上的刻蚀阻挡层图案；以及分别设于所述有源层图案上且均与所述刻蚀阻挡层图案接触的源极金属图案和漏极金属图案；其中，所述刻蚀阻挡层图案在所述衬底基板上的正投影与源极金属图案在所述衬底基板上的正投影斜交。本公开可以避免由于电荷聚集而导致薄膜晶体管烧毁的问题，同时也可以避免由于驼峰效应造成的不良影响。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 阵列 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：衬底基板；设于所述衬底基板上的栅极金属层；设于所述栅极金属层上的栅极绝缘层；设于所述栅极绝缘层上的有源层图案；设于所述有源层图案上的刻蚀阻挡层图案；以及分别设于所述有源层图案上且均与所述刻蚀阻挡层图案接触的源极金属图案和漏极金属图案；其中，所述刻蚀阻挡层图案在所述衬底基板上的正投影与源极金属图案在所述衬底基板上的正投影斜交。
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