[发明专利]一种发光二极管的外延片及制备方法在审

专利信息
申请号: 201710336067.6 申请日: 2017-05-12
公开(公告)号: CN107331746A 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 邢振远;李彤;王世俊;吴燕;薛亚芝 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省金华市义*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种发光二极管的外延片及制备方法,属于光电子制造技术领域。该外延片包括衬底以及依次层叠在衬底上的N型层、有源层、第一电子阻挡层、第二电子阻挡层和P型层,第一电子阻挡层为AlxGa(1‑x)InP层,第二电子阻挡层为AlyIn(1‑y)P层,第一电子阻挡层中的Al的组分从靠近有源层一侧向远离有源层一侧逐渐增加,由于第一电子阻挡层中的Al的组分从靠近有源层一侧向远离有源层一侧逐渐增加,因此第一电子阻挡层的禁带宽度逐渐提高,使得第一电子阻挡层的禁带宽度与有源层的禁带宽度的差值增大,增强对电子的限制作用,第二电子阻挡层也可以对电子进行阻挡,减少电子进入到P型层中的数量,从而提高了发光效率。
搜索关键词: 一种 发光二极管 外延 制备 方法
【主权项】:
一种发光二极管的外延片,其特征在于,所述外延片包括衬底以及依次层叠在所述衬底上的N型层、有源层、第一电子阻挡层、第二电子阻挡层和P型层,所述第一电子阻挡层为AlxGa(1‑x)InP层,所述第二电子阻挡层为AlyIn(1‑y)P层,所述第一电子阻挡层中的Al的组分从靠近所述有源层一侧向远离所述有源层一侧逐渐增加,其中,0<x≤1,0<y≤1。
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