[发明专利]掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法有效
| 申请号： | 201710326143.5 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN106933025B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 崔家宾;王丽;李志宾;梁鹏飞;刘畅;陈鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/44 | 分类号： | G03F1/44;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李莎;李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版，包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口，所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记；所述第一检测标记，与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平；所述第二检测标记，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间，和/或，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓间距测量测试窗口之间。本发明还公开了一种掩膜版组件、曝光机和采用所述掩膜版检测测试窗口遮挡效果的方法。本发明提出的掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法，能够用于监控测试窗口的遮挡不良问题。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 组件 曝光 检测 测试 窗口 遮挡 效果 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜版，包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口，其特征在于，所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记；所述第一检测标记，与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平；所述第二检测标记，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间，和/或，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述间距测量测试窗口之间。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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