[发明专利]掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法有效
申请号: | 201710326143.5 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN106933025B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 崔家宾;王丽;李志宾;梁鹏飞;刘畅;陈鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44;G03F7/20 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李莎;李弘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 及其 组件 曝光 检测 测试 窗口 遮挡 效果 方法 | ||
1.一种掩膜版,包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口,其特征在于,所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记;
所述第一检测标记,与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平;
所述第二检测标记,设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间,和/或,设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述间距测量测试窗口之间。
2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一检测标记设置在所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的一侧。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜版,其特征在于,所述第一检测标记包括第一子标记和第二子标记;
所述第一子标记设置在所述对位标记测试窗口的一侧;
所述第二子标记设置在所述间距测量测试窗口的一侧。
4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
5.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述掩膜版的透光区整体轮廓的长度。
6.根据权利要求4或5所述的掩膜版,其特征在于,所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓朝向所述对位标记测试窗口的边缘与所述对位标记测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离,和/或,所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓的朝向所述间距测量测试窗口的边缘与所述间距测量测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离。
7.一种掩膜版组件,其特征在于,包括多个如权利要求1-6任一项所述的掩膜版;
所述第一检测标记包括第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记;
所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上;且所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同;
和/或,
所述第二检测标记包括第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记;
所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上,且所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同。
8.根据权利要求7所述的掩膜版组件,其特征在于,所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记的数量均为多个;
多个所述第二红色检测标记等间隔排列,且距离最远的两个第二红色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离;
多个所述第二绿色检测标记等间隔排列,且距离最远的两个第二绿色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离;
多个所述第二蓝色检测标记等间隔排列,且距离最远的两个第二蓝色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离;
多个所述第二隔垫物检测标记等间隔排列,且距离最远的两个第二隔垫物检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
9.一种采用如权利要求1-6任一项所述掩膜版或者采用如权利要求7或8所述掩膜版组件检测测试窗口遮挡效果的方法,其特征在于,包括:
利用所述掩膜版或掩膜版组件完成彩色滤光片中红色着色层、绿色着色层、蓝色着色层和/或隔垫物层的制作;
对所述彩色滤光片的基板进行光学检测;
若检测到所述第一检测标记在所述彩色滤光片的基板上形成的第一记号,则判定为出现第一遮挡缺陷;
和/或,
若检测到所述第二检测标记在所述彩色滤光片的基板上形成的第二记号为不完整的第二检测标记图案,则判定为出现第二遮挡缺陷。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述光学检测采用的是自动光学检测技术。
11.一种曝光机,其特征在于,采用如权利要求1-6任一项所述掩膜版或者采用如权利要求7或8所述掩膜版组件完成曝光。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备