[发明专利]掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法有效
申请号: | 201710326143.5 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN106933025B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 崔家宾;王丽;李志宾;梁鹏飞;刘畅;陈鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44;G03F7/20 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李莎;李弘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 及其 组件 曝光 检测 测试 窗口 遮挡 效果 方法 | ||
技术领域
本发明涉及测试技术领域,特别是指一种掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法。
背景技术
彩色滤光片(Color Filter,CF)作为LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)实现彩色显示的关键零部件,其性能(主要为开口率、色纯度、色差)直接影响到液晶面板的色彩还原性、亮度、对比度。目前,彩色滤光片一般的层次结构基本为玻璃基板、BM(黑矩阵,Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、保护层(OC,Over Coat)、ITO(Indium Tin Oxides,铟锡氧化物)透明导电膜等。
现有技术中,曝光机在进行制作彩色光阻层的过程中的曝光工序时,需要采用遮板(Shade)对掩膜版上面用于间距控制的间距测量窗口(Gap Window)和用于对位的对位标记测试窗口(Alignment Mark Window)进行遮挡,避免其在多个工序中连续被曝光。
但是,在实现本发明的过程中,发明人发现,目前在Color Filter工艺制作上存在以下问题:
1、在R/G/B/PS工艺中由于曝光机设备的遮板存在一定的不稳定性,经常性发生对位标记测试窗口和/或间距测量窗口的遮挡不严(即窗口没有完全被遮板所遮盖),造成对位标记测试窗口和/或间距测量窗口对应于基板上的位置存在PR胶残留,由于残留PR胶具有一定高度,叠加后会造成显示面板在对盒后出现液晶外漏的不良情况。
2、在R/G/B/PS工艺中由于曝光机设备的遮板存在一定的不稳定性,经常性发生对位标记测试窗口和/或间距测量窗口遮挡过大(即遮板过于靠近可视区),造成可视区范围内出现CD(图形尺寸)变小的情况,造成一定程度上的RGB CD和PS CD过小问题。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提出一种掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法,能够实现监控不良发生的作用。
基于上述目的本发明提供的掩膜版,包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口,所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记;
所述第一检测标记,与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平;
所述第二检测标记,设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间,和/或,设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述间距测量测试窗口之间。
可选的,所述第一检测标记设置在所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的一侧。
可选的,所述第一检测标记包括第一子标记和第二子标记;
所述第一子标记设置在所述对位标记测试窗口的一侧;
所述第二子标记设置在所述间距测量测试窗口的一侧。
可选的,所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
可选的,所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述掩膜版的透光区整体轮廓的长度。
可选的,所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓朝向所述对位标记测试窗口的边缘与所述对位标记测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离,和/或,所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓的朝向所述间距测量测试窗口的边缘与所述间距测量测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离。
本发明实施例的第二个方面,提供了一种掩膜版组件,包括多个如上任一项所述的掩膜版;
所述第一检测标记包括第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记;
所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上;且所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同;
和/或,
所述第二检测标记包括第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记;
所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上,且所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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