[发明专利]利用光学显微镜观测固体核径迹探测器的径迹形貌的方法有效

专利信息
申请号: 201710318464.0 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN107144871B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 张贵英;惠宁;沈东军;郭泽钦;王志超;丁晓文;曹磊;王小春;牛东升;李珏 申请(专利权)人: 北京市化工职业病防治院
主分类号: G01T5/00 分类号: G01T5/00
代理公司: 北京悦成知识产权代理事务所(普通合伙) 11527 代理人: 樊耀峰
地址: 100093 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种利用光学显微镜观测固体核径迹探测器的径迹形貌的方法,包括如下步骤:将固体核径迹探测器制备成方形探测器,并将该方形探测器的四边磨平抛光,并标识观测边;利用粒子束流对方形探测器进行垂直辐照从而形成辐照后的探测器,并且粒子束流的辐照面积大于方形探测器的面积;将辐照后的探测器进行蚀刻,从而形成蚀刻后的探测器,然后将蚀刻后的探测器取出,经过后处理得到待观测的探测器;在取出过程中保证观测边不与硬物接触;将待观测的探测器置于光学显微镜的观测平台上,并使得所述观测边朝向所述光学显微镜的物镜,从而观测径迹形貌。本发明实现了借助光学显微镜实现对径迹形貌进行观测的目的。
搜索关键词: 利用 光学 显微镜 观测 固体 径迹 探测器 形貌 方法
【主权项】:
1.一种利用光学显微镜观测固体核径迹探测器的径迹形貌的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:(1)制样步骤:将固体核径迹探测器制备成方形探测器,并将该方形探测器的四边磨平抛光,并标识观测边;其中,所述观测边用于观测辐照后形成的径迹形貌;(2)辐照步骤:利用离子能量为210MeV的72Ge束流或离子能量为272.14MeV的126I束流对所述方形探测器进行垂直辐照,从而形成辐照后的探测器,并且72Ge束流或126I束流的辐照面积大于所述方形探测器的面积;其中,72Ge束流的注量为5×104~5×105/cm2126I束流的注量为8×102~5×103/cm2;(3)蚀刻步骤:将所述辐照后的探测器置于作为蚀刻溶液的5~6mol/L的NaOH水溶液中,在50~55℃的蚀刻温度下进行蚀刻1500~2500min,从而形成蚀刻后的探测器,然后将所述蚀刻后的探测器取出,放入稀盐酸中浸泡8~30min,再放入去离子水中清洗,最后吹干得到待观测的探测器;在取出过程中保证所述观测边不与硬物接触;(4)观测步骤:将所述待观测的探测器置于光学显微镜的观测平台上,并使得所述观测边朝向所述光学显微镜的物镜,从而观测径迹形貌;其中,所述光学显微镜不包括扫描电子显微镜SEM、透射电子显微镜TEM和原子力显微镜AFM。
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