[发明专利]多元合金复合薄膜制备设备和制备方法有效
| 申请号： | 201710305293.8 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN107130213B | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 赵海波;梁红樱;董骐;杜建;鲜广;但秦 | 申请（专利权）人： | 成都真锐科技涂层技术有限公司;四川大学 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;C23C14/32;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/18;C23C28/00 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 张竞 |
| 地址： | 610052 四川省成都市成华区东*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种多元合金复合薄膜制备设备和制备方法，尤其是一种涉及纳米涂层技术领域的多元合金复合薄膜制备设备和制备方法。本发明提供一种可显著提高所镀膜的切削刀具综合性能的多元合金复合薄膜制备设备，包括加热系统、供气系统、冷却系统、真空系统、真空室、载物架、升降机构、坩埚蒸发源、磁控溅射源、阴极电弧源和电气控制系统。本申请的设备可以实现阴极电弧离子镀与磁控溅射的组合工艺，及真空蒸发镀与磁控溅射相结合的二元蒸发源工艺，进行多元合金复合薄膜的制备，准确控制各类薄膜的组织结构，从而得到高的硬度、低的内应力、高的结合力、低的粗糙度、良好的耐磨性等综合性优异的多元薄膜，且在制备过程中具有高的沉积速率。 | ||
| 搜索关键词： | 多元合金 复合薄膜制备 制备 磁控溅射 蒸发源 阴极电弧离子镀 电气控制系统 纳米涂层技术 磁控溅射源 阴极电弧源 耐磨性 多元薄膜 复合薄膜 供气系统 加热系统 冷却系统 切削刀具 升降机构 真空系统 制备过程 准确控制 综合性能 组合工艺 组织结构 粗糙度 结合力 载物架 真空室 镀膜 坩埚 薄膜 沉积 申请 | ||
【主权项】：
1.多元合金复合薄膜制备设备，其特征在于：包括加热系统、供气系统、冷却系统、真空系统、真空室、载物架(3)、升降机构、坩埚蒸发源(23)、磁控溅射源(9)、阴极电弧源(8)、电磁场发生装置和电气控制系统，所述真空系统与真空室连通，所述升降机构与载物架(3)传动连接，所述供气系统与真空室连通，所述电气控制系统与坩埚蒸发源(23)、磁控溅射源(9)、阴极电弧源(8)、电磁场发生装置、加热系统电连接，所述坩埚蒸发源(23)、磁控溅射源(9)、阴极电弧源(8)位于真空室中，所述阴极电弧源(8)的靶基距为160mm至230mm，所述磁控溅射源(9)的靶基距为50mm至75mm。
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