[发明专利]用于器件制造的改进布局有效
| 申请号： | 201710303374.4 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN107452789B | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·托马斯·皮克 | 申请（专利权）人： | 安世有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/739 | 分类号： | H01L29/739;H01L21/336;H01L29/423 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;龙涛峰 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明披露了一种器件以及制造器件的方法。该器件包括：半导体基板；多个源极线，其形成在半导体基板的表面上。多个源极线沿X方向和Y方向这两个方向布置。该器件还包括：多个栅极线，其布置在多个源极线中的在X方向上的源极线上方；源极接点线，其与多个源极线中的在Y方向上终止的源极线连接；栅极接点线，其与多个栅极线连接；以及漏极接点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 器件 制造 改进 布局 | ||
【主权项】：
一种器件，包括：半导体基板；多个源极线，其形成在所述半导体基板的表面上，其中，所述多个源极线沿X方向和Y方向这两个方向布置；多个栅极线，其布置在所述多个源极线中的在X方向上的源极线上方；源极接点线，其与所述多个源极线中的在Y方向上终止的源极线连接；栅极接点线，其与所述多个栅极线连接；以及漏极接点。
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