[发明专利]有机薄膜晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710222765.3 申请日: 2017-04-07
公开(公告)号: CN108695434B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 冉晓雯;蔡娟娟;陈俊智;刘洪铨;李宗玹;陈蔚宗 申请(专利权)人: 元太科技工业股份有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/40
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种有机薄膜晶体管及其制作方法,有机薄膜晶体管包含基板、疏水层、氧化层、亲水层、半导体层与源极或漏极层。疏水层覆盖基板的表面。氧化层位于疏水层上,且氧化层具有多个区段。亲水层位于氧化层的区段上,且氧化层位于亲水层与疏水层之间。半导体层位于亲水层上,且亲水层位于半导体层与氧化层之间。源极或漏极层跨接于氧化层的区段上的半导体层上。有机薄膜晶体管的亲水层不需经过光阻涂布、曝光、显影与蚀刻等步骤,便可将亲水层图案化,使得亲水层不会接触到光阻而被破坏。在后续工艺中,具有亲水性的半导体层将不会因图案化亲水层的步骤而影响其排列。
搜索关键词: 有机 薄膜晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种有机薄膜晶体管,其特征在于,包含:基板;疏水层,覆盖所述基板的表面;氧化层,位于所述疏水层上,且所述氧化层具有多个区段;亲水层,位于所述氧化层的所述多个区段上,其中所述氧化层位于所述亲水层与所述疏水层之间;半导体层,位于所述亲水层上,其中所述亲水层位于所述半导体层与所述氧化层之间;以及源极或漏极层,跨接于所述氧化层的所述多个区段上的所述半导体层上。
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