[发明专利]在高弧度三维立体上制备高精度线路图形的曝光方法

摘要

本发明公开了一种在高弧度三维立体上制备高精度线路图形的新型曝光工艺，可实现在高弧度三维立体上制作高精度的线路图形，该系统所生产的3D盖板图形边缘锯齿≤1um，尺寸为5吋的单片生产效率达10秒/片，生产成本低，良率高，产品品质稳定，是一种高精度、高良率、可量产化的新型曝光系统，该系统可扩展应用到3D车载液晶变色玻璃、柔性弯曲显示屏幕、柔性电容式触摸屏的线路制作、半导体高端三维立体封装等高弧面三维立体图形制作领域，该发明的曝光系统还可以根据客户产品的需求，适当修改曝光系统设计，可实现边缘锯齿1um甚至更高精度的高弧度三维立体图形的制作。

主权项

1.在高弧度三维立体上制备高精度线路图形的曝光方法，其特征在于：其具体步骤在于：a、承载板定位，b、排板，将多个3D曲面玻璃盖板以整列方式排列在承载板上，c、读取定位数据，通过视觉识别系统获取3D曲面玻璃盖板在承载板上的定位信息，d、存储定位信息，将上步中获取的3D曲面玻璃盖板在承载板上的定位信息信息储存到系统数据库中，e、读取定位信息，从系统数据库中读取该承载板上3D曲面玻璃盖板的定位信息，f、读取曝光电子图形中的图形填充位置、曝光位置、曝光焦点信息，g、生成动态电子掩模，根据需要曝光的产品的立体图形弧面曲率、弧面高度参数，和需要曝光的图形分辨率的要求，结合曝光机设备引擎的分辨率、景深的曝光解析能力参数指标和曝光光斑的大小尺寸指标，将图形做区域分割，以确保每个曝光区域的图形均在对应的单次曝光光斑焦点的有效景深范围内，然后将此分割后的需要曝光的图形，根据定位信息对图形的填充位置及倾斜角度进行修正，生成动态电子掩模，h、光刻图形，利用无掩模光刻系统按动态电子掩模进行光刻，根据曝光图形信息，曝光g项中不同焦面上不同的曝光图形，实现3D立体图形无缝拼接曝光i、重复以上e到h步骤，重复制作后续的多层图形，完成多层图形的叠加制作，上述步骤包括以下部分：承载板：用于承载若干已喷曝光油墨或感光胶的3D曲面玻璃盖板；视觉识别系统：用于摄取3D曲面玻璃盖板边缘位置图像，进行图像识别，并获取3D曲面玻璃盖板在承载板上的定位信息；系统数据库：用于存储视觉识别系统获取的定位信息；曝光图形分割和曝光焦点仿真系统：该系统能够根据每块3D曲面玻璃盖板的曝光尺寸大小自动生成电子图形，并通过计算将每块3D曲面玻璃盖板表面分割成若干分割区域并确定每个分割区域的曝光焦点，并根据每个分割区域的大小及位置将电子图形进行分割形成新的区域电子图形；曝光电子图形生成系统：将区域电子图形填充至相应的3D曲面玻璃盖板上的对应的分割区域，并形成曝光图形；动态电子掩模生成系统：根据定位信息对3D曲面玻璃盖板上的曝光图形的填充位置及倾斜角度进行修正，使各曝光图形的位置与对应的3D曲面玻璃盖板上的实际位置一致，生成动态电子掩模；无掩模光刻系统：利用激光技术按动态电子掩模进行光刻。