[发明专利]基板制程、基板、显示面板及显示装置有效
| 申请号： | 201710186222.0 | 申请日： | 2017-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN107102516B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 简重光 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G03F7/16;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基板制程、基板、显示面板及显示装置，所述基板制程的步骤包括：提供一基板；对所述基板进行第一光阻涂布；对经所述第一光阻涂布处理后的所述基板进行真空干燥处理；对经真空干燥处理后的所述基板进行曝光处理，并使用光罩遮挡部分所述第一光阻；对经曝光处理后的所述基板进行显影处理，形成第一光阻阵列；对经显影处理后的所述基板进行第一次热风刀处理。本发明技术方案可得到成本低且良率高的彩色滤光片基板。 | ||
| 搜索关键词： | 基板制程 基板 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】：
一种基板制程，其特征在于，所述制程包括步骤：提供一基板；对所述基板进行第一光阻涂布；对经所述第一光阻涂布处理后的所述基板进行真空干燥处理；对经真空干燥处理后的所述基板进行曝光处理，并使用光罩遮挡部分所述第一光阻；对经曝光处理后的所述基板进行显影处理，形成第一光阻阵列；对经显影处理后的所述基板进行第一次热风刀处理。
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