[发明专利]一种双波段探测器的制作方法在审
申请号: | 201710185061.3 | 申请日: | 2017-03-25 |
公开(公告)号: | CN106972077A | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 张清 | 申请(专利权)人: | 张清 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 257000 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种双面红外/紫外双波段探测器制作方法,通过红外探测区以及紫外探测区的结构和位置的设置,紫外探测区域在正面入射光探测时使用正面入光p-i-n结构,在背面入射光探测时使用背面入光p-i-n结构,红外探测区域分别使用衬底正面和背面的探测结构进行探测,使制作的双面红外/紫外双波段探测器,能够对于正面/背面入射的红外/紫外光都能够进行探测,并且红外和紫外光探测区域互不干扰,从而实现了双面探测的功能。 | ||
搜索关键词: | 一种 波段 探测器 制作方法 | ||
【主权项】:
一种双面红外/紫外双波段探测器制作方法,包括如下步骤:(1)通过MOCVD法在衬底上表面生长N型GaN层;(2)通过MOCVD法在N型GaN层上第一区域上依次生长i型GaN层以及P型GaN层;(3)通过溶胶-凝胶法在N型GaN层上第二区域上依次生长SiO2钝化层,多孔SO2隔热层,红外热吸收层以及PZT薄膜层;(5)通过MOCVD法在衬底下表面对应第二区域的位置生长GaN缓冲层;(6)通过溶胶-凝胶法在GaN缓冲层外依次生长SiO2钝化层,多孔SO2隔热层,红外热吸收层以及PZT薄膜层;(7)通过IPC刻蚀得到N型GaN层左侧台面,以及第一区域与第二区域之间的间隔;(8)通过电子束蒸发在N型GaN层左侧台面上下沉积In/ Au合金,在P型GaN层沉积Ni/Au合金;(9)通过IPC刻蚀得到上部以及下部红外热吸收层左侧台面;(10)通过电子束蒸发在上部以及下部红外热吸收层左侧台面沉积下电极;(11)通过电子束蒸发在上部以及下部PZT薄膜层沉积上电极。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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