[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201710165807.4 申请日: 2017-03-20
公开(公告)号: CN107275255B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 吉田武司 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇;崔炳哲
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种基板处理装置,用于接受向基板外排除的处理液的挡板,以在俯视时包围基板保持单元和相向构件的方式配置。挡板与基板、具有与基板的上表面相向的相向面的相向构件一起形成从周围的环境气体隔离的空间。通过非活性气体供给单元向空间供给非活性气体,从而将空间内的环境气体置换为非活性气体。以在形成有空间的状态下配置于上述空间内的方式从挡板的内壁延伸的处理液供给喷嘴,向基板的上表面供给处理液。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
一种基板处理装置,利用处理液处理基板,其中,包括:基板保持单元,将基板保持为水平;相向构件,具有与被上述基板保持单元保持的基板的上表面相向的相向面;挡板,以在俯视时包围上述基板保持单元和上述相向构件的方式配置,能够与被上述基板保持单元保持的基板、上述相向构件一起形成从周围的环境气体隔离的空间,用于接受向基板外排除的处理液;处理液供给喷嘴,以在形成有上述空间的状态下配置于上述空间内的方式,从上述挡板的内壁延伸,向被上述基板保持单元保持的基板的上表面供给处理液;以及,非活性气体供给单元,为了将上述空间内的环境气体置换为非活性气体,上述非活性气体供给单元向上述空间供给非活性气体。
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