[发明专利]常压等离子镀膜装置

摘要

一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下，且配置以喷射等离子。喷嘴具有喷口以及平滑轮廓，且此平滑轮廓的外径由管状电极往喷口渐缩。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴，且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物，以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计，搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力，可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度，提升镀膜品质，更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。

主权项

1.一种常压等离子镀膜装置，其特征在于，包含：一常压等离子产生器，包含：一管状电极；以及一喷嘴，设于该管状电极下，且配置以喷射一等离子，其中该喷嘴具有一喷口以及一平滑轮廓，且该平滑轮廓的一外径由该管状电极往该喷口渐缩；以及至少一前驱物进料治具，邻设于该管状电极与该喷嘴，且配置以朝该喷嘴的该平滑轮廓喷射一镀膜前驱物，以使该镀膜前驱物沿着该平滑轮廓流至该喷口前。