[发明专利]常压等离子镀膜装置

权利要求书

1.一种常压等离子镀膜装置，其特征在于，包含：

一常压等离子产生器，包含：一管状电极；以及一喷嘴，设于该管状电极下，且配置以喷射一等离子，其中该喷嘴具有一喷口以及一平滑轮廓，该喷口位于该喷嘴的底部，且该平滑轮廓的一外径由该管状电极往该喷口渐缩；以及

至少一前驱物进料治具，邻设于该管状电极与该喷嘴，且配置以朝该喷嘴的该平滑轮廓喷射一镀膜前驱物，以使该镀膜前驱物沿着该平滑轮廓流至该喷口前，其中该至少一前驱物进料治具具有至少一开口，该至少一开口位于该喷嘴的顶部的外侧的上方。

2.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该常压等离子产生器还包含一棒状电极设于该管状电极内。

3.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该平滑轮廓为一流线形轮廓。

4.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该至少一前驱物进料治具包含多个前驱物进料治具，所述多个前驱物进料治具围设于该喷嘴及/或该管状电极外。

5.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，所述多个前驱物进料治具之间具有相同间距。

6.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该至少一前驱物进料治具是一环状前驱物进料治具，该环状前驱物进料治具环设于该喷嘴及/或该管状电极外。

7.根据权利要求6所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该环状前驱物进料治具具有一环状流道。

8.根据权利要求7所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该环状流道具有一环状开口，且该环状开口与该喷嘴及/或该管状电极相对。

9.根据权利要求7所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该环状流道具有多个开口，所述多个开口与该喷嘴及/或该管状电极相对。

10.根据权利要求9所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，所述多个开口之间具有相同间距。