[发明专利]提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂及其使用方法

摘要

本发明公开了一种提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂及其使用方法，该附着力促进剂主要由5～15g/L含氮杂环共聚物、1～10g/L含羟基的溶剂、20～60g/L有机酸、25～100ppm卤素离子和余量去离子水组成，其中含氮杂环共聚物是由含氮杂环类单体、烷基丙烯酸酯类单体、硅氧烷类单体和亲水性单体按照质量比为(20～80):(5～65):(1～5):(5～15)经自由基共聚制备所得的，通过该附着力促进剂对图形电路导体光滑铜面进行处理，能够显著提高光致抗蚀剂与铜及铜合金之间的附着力，且对基底铜表面基本无腐蚀或者腐蚀极其微小，且使用方法与传统粗化工艺比较，减少工序，降低了生产成本。

主权项

1.一种提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂，其特征在于：主要由下述各组分组成：其中所述含氮杂环共聚物是由含氮杂环类单体、烷基丙烯酸酯类单体、硅烷类单体和亲水性单体按照质量比为(20～80):(5～65):(1～5):(5～15)经自由基共聚制备所得的；所述含氮杂环类单体为1‑乙烯基咪唑、2‑乙烯基咪唑、2‑乙烯基吡啶、4‑乙烯基吡啶、N‑乙烯基吡咯烷酮和2‑[3‑(2H‑苯并三唑‑2‑基)‑4‑羟基苯基]乙基‑2‑甲基丙烯酸酯中的至少一种;所述烷基丙烯酸酯类单体的化学通式为CH₂＝C(‑X)‑C(＝O)‑O‑R，其中X为H或甲基中的一种，R为碳原子数为7～17的烷基；所述硅烷类单体为乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ‑(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷和γ‑(甲基丙烯酰氧)丙基三乙氧基硅烷中的至少一种；所述亲水性单体为丙烯酰胺、N‑羟甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酰二甲氨基乙酯中的至少一种。