[发明专利]提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201710159848.2 申请日: 2017-03-17
公开(公告)号: CN106883719B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 陈修宁;张艳华;黄志齐;贺承相;黄京华;王淑萍 申请(专利权)人: 昆山市板明电子科技有限公司
主分类号: C09D139/04 分类号: C09D139/04;C09D5/00;C09D7/65;G03F7/11
代理公司: 昆山四方专利事务所 32212 代理人: 盛建德;陈宁
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 提高 光致抗蚀剂 附着力 促进剂 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂,其特征在于:主要由下述各组分组成:

其中所述含氮杂环共聚物是由含氮杂环类单体、烷基丙烯酸酯类单体、硅烷类单体和亲水性单体按照质量比为(20~80):(5~65):(1~5):(5~15)经自由基共聚制备所得的;

所述含氮杂环类单体为1-乙烯基咪唑、2-乙烯基咪唑、2-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮和2-[3-(2H-苯并三唑-2-基)-4-羟基苯基]乙基-2-甲基丙烯酸酯中的至少一种;

所述烷基丙烯酸酯类单体的化学通式为CH2=C(-X)-C(=O)-O-R,其中X为H或甲基中的一种,R为碳原子数为7~17的烷基;

所述硅烷类单体为乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷和γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三乙氧基硅烷中的至少一种;

所述亲水性单体为丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酰二甲氨基乙酯中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂,其特征在于:所述含氮杂环类单体为1-乙烯基咪唑,所述硅烷类单体为γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,所述亲水性单体为甲基丙烯酰二甲氨基乙酯。

3.根据权利要求1所述的提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂,其特征在于:所述含羟基的溶剂为乙醇、异丙醇、乙二醇、一缩二乙二醇、二缩三乙二醇、乙二醇甲醚和乙二醇丁醚中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂,其特征在于:所述有机酸为甲酸、乙酸、丙酸和柠檬酸中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂,其特征在于:还包括聚醚类消泡剂或有机硅类消泡剂,且该聚醚类消泡剂或有机硅类消泡剂的用量为0.05~1.0g/L。

6.一种权利要求1至5中任一权利要求所述提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂的使用方法,其特征在于:包括下述步骤:

(1)预先准备铜箔基板并进行表面清洁刷磨;

(2)将经刷磨处理后的铜箔基板采用酸性脱脂剂进行脱脂处理,其中所述酸性脱脂剂为羟基乙酸与硫酸混合形成的;

(3)将脱脂处理后的铜箔基板经水洗后,进行水平喷淋附着力促进剂或垂直浸泡入附着力促进剂30~60s,所述附着力促进剂的使用温度为25~35℃;该附着力促进剂为上述提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂;

(4)将处理后的铜箔基板再次进行水洗,然后在70~80℃下烘干后进行后续的干膜贴合制程。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山市板明电子科技有限公司,未经昆山市板明电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710159848.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top