[发明专利]反应腔室及半导体加工设备有效
| 申请号： | 201710149543.3 | 申请日： | 2017-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN108573847B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 佘清 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种反应腔室及半导体加工设备，其包括介质窗、环绕在介质窗内侧的法拉第屏蔽件和绝缘环、环绕在介质窗外侧的射频线圈，绝缘环设置在法拉第屏蔽件的底部，用以支撑法拉第屏蔽件。其中，射频线圈包括线圈本体，该线圈本体沿介质窗的轴向呈螺旋状缠绕，且在线圈本体中设置有冷却通道，该冷却通道沿线圈本体的缠绕方向延伸。通过向冷却通道内通入冷却媒介，来冷却介质窗，从而间接冷却法拉第屏蔽件，进而可以减小法拉第屏蔽件的热膨胀量，从而可以保证绝缘环在高温状态下不被破坏，进而提高工艺稳定性和设备可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种反应腔室，包括介质窗、环绕在所述介质窗内侧的法拉第屏蔽件和绝缘环、环绕在所述介质窗外侧的射频线圈，所述绝缘环设置在所述法拉第屏蔽件的底部，用以支撑所述法拉第屏蔽件，其特征在于，所述射频线圈包括线圈本体，所述线圈本体沿所述介质窗的轴向呈螺旋状缠绕，且在所述线圈本体中设置有冷却通道，所述冷却通道沿所述线圈本体的缠绕方向延伸；通过向所述冷却通道内通入冷却媒介，来冷却所述介质窗，从而间接冷却所述法拉第屏蔽件。
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