[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

摘要

本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板的制作方法，包括形成绝缘层的步骤和在所述绝缘层上形成第二透明导电层的图形的步骤，所述第二透明导电层的图形包括位于显示区域的多个间隔设置的子电极；所述制作方法还包括：去除显示区域中所述绝缘层未被所述子电极覆盖的部分。通过本发明的技术方案，能够去除狭缝状电极间隙存在的多晶态ITO颗粒残留，改善显示装置的显示效果，并提高显示装置的透过率。

主权项

1.一种显示基板的制作方法，包括形成绝缘层的步骤和在所述绝缘层上形成第二透明导电层的图形的步骤，所述第二透明导电层的图形包括位于显示区域的多个间隔设置的子电极；其特征在于，所述制作方法还包括：去除显示区域中所述绝缘层未被所述子电极覆盖的部分；形成所述第二透明导电层的图形和形成所述绝缘层的图形的步骤包括：在所述绝缘层上形成透明导电层过渡图形，所述透明导电层过渡图形包括位于薄膜晶体管区域的第一部分和位于显示区域的第二部分，所述第二部分包括多个间隔设置的子电极；去除显示区域中所述子电极之间的间隙对应的绝缘层的部分；去除所述透明导电层过渡图形的第一部分，形成所述第二透明导电层的图形；形成所述第二透明导电层的图形和形成所述绝缘层的图形的步骤具体包括：在所述绝缘层上沉积第二透明导电层；在所述第二透明导电层上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，形成光刻胶保留区域和光刻胶未保留区域，光刻胶未保留区域对应所述子电极之间的间隙；通过湿法刻蚀去除光刻胶未保留区域的第二透明导电层，形成所述透明导电层过渡图形；通过干法刻蚀去除光刻胶未保留区域的绝缘层；去除薄膜晶体管区域的光刻胶；通过湿法刻蚀去除所述透明导电层过渡图形中未被光刻胶覆盖的部分，形成第二透明导电层的图形；去除剩余的光刻胶。