[发明专利]捕集装置和使用该捕集装置的排气系统、基板处理装置有效
申请号: | 201710134232.X | 申请日: | 2017-03-08 |
公开(公告)号: | CN107201506B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 林喜代人;及川雅博 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种能够无需相对于排气系统进行装卸且延长用于恰当地保持装置运转环境的清洁周期的捕集装置和使用该捕集装置的排气系统、基板处理装置。一种捕集装置(50),其具有捕集部(10),该捕集部(10)设置于配管(60)内的流路(61),所述捕集部具有相对于所述配管内的流路倾斜的倾斜面,在该倾斜面设置有多个开口(11)。 | ||
搜索关键词: | 集装 使用 排气 系统 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种捕集装置,其具有捕集部,该捕集部设置于配管内的流路,其中,所述捕集部具有相对于所述配管内的流路倾斜的倾斜面,在该倾斜面设置有多个开口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的