[发明专利]捕集装置和使用该捕集装置的排气系统、基板处理装置有效
申请号: | 201710134232.X | 申请日: | 2017-03-08 |
公开(公告)号: | CN107201506B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 林喜代人;及川雅博 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集装 使用 排气 系统 处理 装置 | ||
1.一种捕集装置,其具有捕集部,该捕集部设置于配管内的流路,其中,
所述捕集部具有相对于所述配管内的流路倾斜的倾斜面,在该倾斜面设置有多个开口,
所述倾斜面呈锥台状的侧面,以及
在所述锥台状的上底和下底的部分形成有用于使气体通过的开口,其中,在所述下底的部分形成的开口的面积大于在所述上底的部分形成的开口的面积,且在所述上底的部分形成的开口的面积大于在所述倾斜面上设置的各开口的面积。
2.根据权利要求1所述的捕集装置,其中,
所述锥台状是圆锥台。
3.根据权利要求1或2所述的捕集装置,其中,
所述锥台状的下底的部分与所述配管的内周面分开地设置。
4.根据权利要求1或2所述的捕集装置,其中,
对于所述多个开口,设置成所述倾斜面的开口面积比非开口面积大。
5.根据权利要求4所述的捕集装置,其中,
所述多个开口呈网格状设置于所述倾斜面。
6.根据权利要求1或2所述的捕集装置,其中,
所述捕集部由金属材料形成。
7.根据权利要求1所述的捕集装置,其中,
该捕集装置具有支承所述捕集部的支承部,
该支承部固定支承于固定构件,该固定构件设置于使相邻的配管彼此连接的凸缘面彼此之间。
8.根据权利要求7所述的捕集装置,其中,
所述支承部安装于所述倾斜面的内周面的位于所述锥台状的下底附近的部分。
9.根据权利要求8所述的捕集装置,其中,
所述支承部设置有多个。
10.根据权利要求7~9中任一项所述的捕集装置,其中,
所述固定构件是用于保持密封构件的构件,该密封构件设置于所述凸缘面彼此之间。
11.根据权利要求10所述的捕集装置,其中,
所述密封构件是O形密封圈,
所述固定构件是保持该O形密封圈的内周面的圆环状的构件。
12.根据权利要求7~9中任一项所述的捕集装置,其中,
该捕集装置还具有第2支承部,该第2支承部安装固定于所述配管的内周面,对所述倾斜面的外周面的位于所述锥台状的上底附近的部分进行支承。
13.根据权利要求7~9中任一项所述的捕集装置,其中,
以所述锥台状的顶点与所述配管的流路的中心大致一致的方式所述倾斜面被所述支承部支承。
14.根据权利要求7~9中任一项所述的捕集装置,其中,
在所述配管弯曲了时,所述倾斜面以与所述配管的曲率相应而与所述配管的内周面非接触的方式被所述支承部支承。
15.一种排气系统,其具有:
多个排气系统配管,其借助凸缘连接起来;
权利要求7~14中任一项所述的捕集装置,其固定地设置于该凸缘。
16.根据权利要求15所述的排气系统,其中,
所述捕集装置在所述多个排气系统配管各设置有1个。
17.根据权利要求15所述的排气系统,其中,
所述捕集装置以所述锥台状的上底彼此相对的方式设置于所述多个排气系统配管中的1根配管内。
18.一种基板处理装置,其具有:
处理室;
处理气体供给部件,其向该处理室供给处理气体;
排气泵,其用于对该处理室进行排气;
权利要求15~17中任一项所述的排气系统,其以与所述处理室和所述排气泵连接的方式设置于所述处理室与所述排气泵之间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的