[发明专利]一种梯度递减结构防液涂层的制备方法有效
申请号: | 201710049239.1 | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN106868473B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/517 | 分类号: | C23C16/517;C23C16/448;C09D4/00;C09D4/02;C09D171/02 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
地址: | 214183 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种梯度递减结构防液涂层的制备方法,属于等离子化学气相沉积技术领域。该方法中:首先将基材置于等离子体室的反应腔体内,对反应腔体连续抽真空,将反应腔体内的真空度抽到10‑200毫托,通入惰性气体或氮气;其次同时通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽;开启等离子体放电,进行化学气相沉积;放电结束,关闭等离子体电源,停止通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽,持续抽真空,保持反应腔体真空度为10‑200毫托1‑5min后通入大气至一个大气压,然后取出基材即可。本发明通过同时通入单体蒸汽,并控制单体蒸汽的流量以不同的速率递减,制得的涂层结构韧性硬度为梯度变化,可降低应力开裂、变形,同时拥有较好的阻隔防护性能。 | ||
搜索关键词: | 单体蒸汽 第三单体 反应腔体 梯度递减 抽真空 反应腔 防液 基材 制备 蒸汽 等离子化学气相沉积技术 氮气 体内 等离子体电源 等离子体放电 化学气相沉积 等离子体室 惰性气体 防护性能 梯度变化 涂层结构 应力开裂 放电 递减 阻隔 变形 取出 | ||
【主权项】:
1.一种梯度递减结构防液涂层的制备方法,其特征在于:主要包括以下步骤:(1)将基材置于等离子体室的反应腔体内,对反应腔体连续抽真空,将反应腔体内的真空度抽到10‑200毫托,通入惰性气体或氮气;(2)同时通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽,开启等离子体放电,进行化学气相沉积;所述第一单体蒸汽为:单官能度不饱和氟碳树脂;所述第二单体蒸汽为:多官能度不饱和烃类衍生物;所述第三单体蒸汽为:多官能度不饱和烃类衍生物;所述通入第一单体蒸汽的流量为10‑1000μL/min;所述通入第二单体蒸汽的初始流量为30‑500μL/min;所述第二单体蒸汽通入流量递减,递减速率为1‑10μL/min;所述通入第三单体蒸汽的初始流量为30‑500μL/min;所述第三单体蒸汽通入流量递减,递减速率为1‑10μL/min;所述多官能度不饱和烃类衍生物包括:乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯、二乙烯苯、聚乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二乙烯基醚、1,6‑己二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸乙二醇酯、二乙二醇二乙烯基醚或二丙烯酸新戊二醇酯;(3)放电结束,关闭等离子体电源,停止通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽,持续抽真空,保持反应腔体真空度为10‑200毫托1‑5min后通入大气至一个大气压,然后取出基材即可。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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