[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201710029742.0 | 申请日： | 2017-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN106997841B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 松浦伸 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种使工艺的生产率提高的基板处理装置。基板处理装置(10)包括腔室(1)、载置台(2)、底座(100)、排气口(83)以及沉积物捕集零件(20)。载置台(2)设于腔室(1)内，用于载置半导体晶圆(W)。底座(100)从下方支承载置台(2)。排气口(83)配置于底座(100)的下方。沉积物捕集零件(20)设于底座(100)的下表面，用于收集腔室(1)内的沉积物。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，其特征在于，其包括：腔室；载置台，其设于所述腔室内，用于载置被处理基板；底座，其从下方支承所述载置台；排气口，其配置于所述底座的下方；收集构件，其用于收集所述腔室内的沉积物，所述收集构件设于所述底座的下表面。
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