[发明专利]激光退火装置和激光退火方法

摘要

一种激光退火装置，用于处理基板，所述激光退火装置具备照射部，所述照射部中，由1个以上透镜构成的透镜列以第一间隔配置若干列，所述基板具有若干列第一区域列和若干列第二区域列，所述第一区域列是由1个以上照射对象区域构成的区域列并以所述第一间隔进行配置，从所述第一区域列开始，沿着与所述区域列垂直的方向向一侧离开小于所述第一间隔的第二间隔，在该处配置所述第二区域列，所述照射部在对所述基板进行扫描时，通过所述透镜对所述照射对象区域进行激光照射，在由含有第一和第二区域列的若干个区域列构成的一列像素单元列内，对于其中至少1种区域列，与其它种类的区域列相比，所述激光退火装置使用不同的透镜列进行激光照射。

主权项

1.一种激光退火装置，用于处理基板，所述激光退火装置具备照射部，所述照射部中，由1个以上透镜构成的透镜列以第一间隔配置若干列，所述基板具有若干列第一区域列和若干列第二区域列，所述第一区域列是由1个以上照射对象区域构成的区域列并以所述第一间隔进行配置，从所述第一区域列开始，沿着与所述区域列垂直的方向向一侧离开小于所述第一间隔的第二间隔，在该处配置所述第二区域列，所述照射部在对所述基板进行扫描时，通过所述透镜对所述照射对象区域进行激光照射，所述激光退火装置的特征在于具备：出射部，射出用于入射到所述透镜的激光；移动机构，在使沿着所述透镜列的列方向与沿着所述区域列的方向一致的状态下，使所述照射部和所述基板沿着所述列方向相对移动；以及控制部，对所述出射部和所述移动机构进行控制，在使所述照射部沿着所述列方向对所述基板进行扫描时，对于位于与所述透镜列相对应的位置上的各所述区域列，通过与该区域列相对应的透镜列中的透镜对该区域列中的照射对象区域进行激光照射，所述控制部在第一次扫描中，通过若干列所述透镜列中的一列透镜列所含的透镜，对所述若干列第一区域列中的非扫描端的一列区域列中的照射对象区域进行激光照射，在第二次或之后的扫描中，通过所述一列透镜列以外的透镜列中的透镜，对在所述一列区域列的所述一侧离所述一列区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射，在第二次或之后的扫描中，通过所述一列透镜列以外的透镜列中的透镜，对在所述一列区域列的所述一侧的相反侧离所述一列区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射。