[发明专利]激光退火装置和激光退火方法在审
| 申请号: | 201680091147.3 | 申请日: | 2016-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN109997213A | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
| 发明(设计)人: | 中川英俊 | 申请(专利权)人: | 堺显示器制品株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268;H01L21/20;H01L21/336;H01L29/786 |
| 代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅 |
| 地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光退火装置 第二区域 第一区域 照射部 透镜 对象区域 激光照射 透镜列 基板 照射 列像素单元 处理基板 激光退火 间隔配置 垂直的 扫描时 配置 | ||
1.一种激光退火装置,用于处理基板,所述激光退火装置具备照射部,所述照射部中,由1个以上透镜构成的透镜列以第一间隔配置若干列,所述基板具有若干列第一区域列和若干列第二区域列,所述第一区域列是由1个以上照射对象区域构成的区域列并以所述第一间隔进行配置,从所述第一区域列开始,沿着与所述区域列垂直的方向向一侧离开小于所述第一间隔的第二间隔,在该处配置所述第二区域列,所述照射部在对所述基板进行扫描时,通过所述透镜对所述照射对象区域进行激光照射,所述激光退火装置的特征在于具备:
出射部,射出用于入射到所述透镜的激光;
移动机构,在使沿着所述透镜列的列方向与沿着所述区域列的方向一致的状态下,使所述照射部和所述基板沿着所述列方向相对移动;以及
控制部,对所述出射部和所述移动机构进行控制,在使所述照射部沿着所述列方向对所述基板进行扫描时,对于位于与所述透镜列相对应的位置上的各所述区域列,通过与该区域列相对应的透镜列中的透镜对该区域列中的照射对象区域进行激光照射,
所述控制部在第一次扫描中,通过若干列所述透镜列中的一列透镜列所含的透镜,对所述若干列第一区域列中的非扫描端的一列区域列中的照射对象区域进行激光照射,
在第二次或之后的扫描中,通过所述一列透镜列以外的透镜列中的透镜,对在所述一列区域列的所述一侧离所述一列区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射,
在第二次或之后的扫描中,通过所述一列透镜列以外的透镜列中的透镜,对在所述一列区域列的所述一侧的相反侧离所述一列区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射。
2.根据权利要求1所述的激光退火装置,其特征在于,
所述控制部在第一次扫描中,通过若干列所述透镜列中的第一端的透镜列所含的透镜,对所述若干列第一区域列中的扫描端的区域列中的照射对象区域进行激光照射,
在第二次或之后的扫描中,通过若干列所述透镜列中的第二端的透镜列所含的透镜,对既是离所述扫描端的区域列最近的所述第一区域列又未作为过扫描对象的区域列中的照射对象区域进行激光照射,所述第二端位于所述第一端的相反侧。
3.根据权利要求1或者2所述的激光退火装置,其特征在于,
所述基板还具有若干列第三区域列,从所述第一区域列开始向所述一侧离开小于所述第一间隔的第三间隔,在该处配置所述第三区域列,
所述第一区域列中的各照射对象区域是第一色的像素部中的薄膜晶体管的特定区域,
所述第二区域列中的各照射对象区域是第二色的像素部中的薄膜晶体管的特定区域,
所述第三区域列中的各照射对象区域是第三色的像素部中的薄膜晶体管的特定区域,
所述控制部在第二次或之后的扫描中,通过一列所述透镜列中的透镜,对在所述一列区域列的所述一侧离所述一列区域列最近的所述第三区域列中的照射对象区域进行激光照射,
所述控制部在第二次或之后的扫描中,通过一列所述透镜列中的透镜,对在所述一列区域列的所述一侧的相反侧离所述一列区域列最近的所述第三区域列中的照射对象区域进行激光照射。
4.根据权利要求3所述的激光退火装置,其特征在于,
所述控制部在第一次扫描中,对所述若干列第一区域列中的一部分对象区域列中的照射对象区域进行激光照射,
所述控制部在第二次扫描中,对位于所述对象区域列的所述一侧且离所述对象区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射,
所述控制部在第三次扫描中,对位于所述对象区域列的所述一侧且离所述对象区域列最近的所述第三区域列中的照射对象区域进行激光照射,
所述控制部在第四次或之后的扫描中,通过若干列所述透镜列中所述一侧的相反侧端部的透镜列中的透镜,对位于所述对象区域列中所述一侧的扫描端的区域列的所述一侧且离该扫描端的区域列最近的所述第一区域列中的照射对象区域进行激光照射。
5.一种激光退火方法,通过照射部处理基板,所述基板具有若干列第一区域列和若干列第二区域列,所述第一区域列是由1个以上照射对象区域构成的区域列并以第一间隔进行配置,从所述第一区域列开始,沿着与所述区域列垂直的方向向一侧离开小于所述第一间隔的第二间隔,在该处配置所述第二区域列,所述照射部中,由1个以上透镜构成的透镜列以所述第一间隔配置若干列,所述照射部在对所述基板进行扫描时,通过所述透镜对所述照射对象区域进行激光照射,所述激光退火方法的特征在于:
在使沿着所述透镜列的列方向与沿着所述区域列的方向一致的状态下,使所述照射部和所述基板沿着所述列方向相对移动,在使所述照射部对所述基板进行扫描时,对于位于与所述透镜列相对应的位置上的各所述区域列,通过与该区域列相对应的透镜列中的透镜对该区域列中的照射对象区域进行激光照射,
在第一次扫描中,通过若干列所述透镜列中的一列透镜列所含的透镜,对所述若干列第一区域列中的非扫描端的一列区域列中的照射对象区域进行激光照射,
在第二次或之后的扫描中,通过所述一列透镜列以外的透镜列中的透镜,对在所述一列区域列的所述一侧离所述一列区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射,
在第二次或之后的扫描中,通过所述一列透镜列以外的透镜列中的透镜,对在所述一列区域列的所述一侧的相反侧离所述一列区域列最近的所述第二区域列中的照射对象区域进行激光照射。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





