[发明专利]将加工物质与掺杂剂植入工件的方法及用于工件的设备

摘要

本发明公开一种将加工物质与掺杂剂植入工件的方法及用于工件的设备。出乎意料地，将例如氩或氖等稀有气体引入至离子源腔室可增加所期望的离子物质的百分比，同时减少污染物及含卤素的离子的量。此在未经质量分析的离子植入机中尤其有益，于所述离子植入机中所有离子被植入至工件内。在一个实施例中，将包含加工物质及卤素的第一源气体引入至离子源腔室中，还引入包含氢化物的第二源气体及包含稀有气体的第三源气体。这三种源气体的组合与在不使用第三源气体时所将发生的相比，可产生具有更高百分比的纯加工物质离子的离子束。

主权项

1.一种植入工件的方法，其特征在于，包括：在腔室中对包含加工物质及氟的第一源气体以及氖供能，以在所述腔室中形成等离子体；以及自所述等离子体提取离子并将所述离子引向所述工件，其中与不使用氖时的基线相比，自所述等离子体提取的纯加工物质离子的量占所有含加工物质的离子的百分比增加了至少5％。