[发明专利]提升直接接合的接触对准容限在审
申请号: | 201680073087.2 | 申请日: | 2016-12-16 |
公开(公告)号: | CN108369913A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 保罗·M·恩奎特斯;盖乌斯·吉尔曼·方腾·二世;贾维尔·A·狄拉克鲁兹 | 申请(专利权)人: | 英帆萨斯邦德科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;H01L21/18;H01L21/768;H01L23/00 |
代理公司: | 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 | 代理人: | 林柳岑;贺亮 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种接合装置结构包括:第一基板,其具有第一组传导性接触结构(较佳的是连接到一装置或电路),并且具有在第一基板上相邻接触结构的第一非金属性区域;第二基板,其具有第二组传导性接触结构(较佳的是连接到一装置或电路),并且具有在第二基板上相邻接触结构的第二非金属性区域;以及在第一组和第二组接触结构之间的接触接合接口,其是藉由将第一非金属性区域接触接合至第二非金属性区域所形成。接触结构包括在两个基板上是非平行的长形接触特征(诸如个别线路或在格栅中连接的线路),而在相交点接触。因而,改善了对准容限同时使凹陷和寄生电容最小化。 | ||
搜索关键词: | 非金属性 接触结构 传导性接触 第二基板 第一基板 对准容限 接合 电路 寄生电容最小化 接合装置 区域接触 直接接合 相交点 凹陷 长形 格栅 基板 平行 | ||
【主权项】:
1.一种接合结构,其包括:第一半导体组件,其包括传导性第一接触结构和相邻所述第一接触结构的非金属性第一接合区域,所述第一接触结构包括传导性第一长形接触特征;以及第二半导体组件,其包括传导性第二接触结构和相邻所述第二接触结构的非金属性第二接合区域,所述第二接触结构包括传导性第二接触特征,其中所述第一接合区域与所述第二接合区域接触并且直接接合,以及其中所述第一长形接触特征被定向以与所述第二接触特征非平行,并且在所述第一长形接触特征和所述第二接触特征之间的相交点处与所述第二接触特征直接接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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