[发明专利]有机膜组合物以及形成图案的方法

摘要

本发明揭示一种有机膜组合物及使用所述有机膜组合物形成图案的方法，有机膜组合物包含有包含由化学式1表示的结构单元的聚合物、由化学式2表示的添加剂以及溶剂。化学式1及化学式2与实施方式中所定义相同。本发明的有机膜组合物能够改良间隙填充特征及平面化特征以及抗蚀刻性。

主权项

1.一种有机膜组合物，包括：包含由化学式1表示的结构单元的聚合物；由化学式2表示的添加剂；及溶剂，[化学式1]在化学式1中，A1为经取代或未经取代的二价环基或经取代或未经取代的二价杂环基，B1为二价有机基团，且*为连接点，[化学式2]在化学式2中，k、m以及n独立地为0或1，且k、m以及n的总和为2或3，当k+m+n为3时，X为‑CH‑或氮(N)，且当k+m+n为2时，X为直接键、‑(CqH2q)‑、‑(CtRw2t)‑、氧(O)、硫(S)或‑S(O2)‑，其中q及t独立地为1至5的整数，且Rw为经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烯基、经取代或未经取代的C1至C20烷胺基、经取代或未经取代的C7至C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1至C20杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基、经取代或未经取代的C1至C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7至C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1至C30卤烷基、经取代或未经取代的C2至C20烯基或其组合，R、R'及R"独立地为氢、羟基、经取代或未经取代的C3至C30单价环基、经取代或未经取代的C1至C30单价直链基团或其组合。