[发明专利]双轴取向聚丙烯膜、金属膜层叠膜和膜电容器有效
| 申请号： | 201680061876.4 | 申请日： | 2016-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN108349153B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 藤本聪一;浅野哲也 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B29C55/12 | 分类号： | B29C55/12;B32B15/08;C08J5/18;H01G4/18;B29K23/00;B29L7/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李照明;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供元件加工性和高温耐电压特性优异的双轴取向聚丙烯膜、金属膜层叠膜和膜电容器。本发明是一种以聚丙烯树脂作为主成分的双轴取向聚丙烯膜，其至少一面的算术平均粗糙度SRa为0.03～0.10μm，至少一面的最大谷深度SRv为0.10～0.50μm，并且在至少一面中通过非接触表面形状测定得到的、1,252×939μm的范围的视场面积中存在的、深度0.05μm以上的谷侧空隙体积为100～10,000μm |
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| 搜索关键词： | 取向 聚丙烯 金属膜 层叠 电容器 | ||
【主权项】：
1.一种双轴取向聚丙烯膜，是以聚丙烯树脂作为主成分的双轴取向聚丙烯膜，其至少一面的算术平均粗糙度SRa为0.03～0.10μm，至少一面的最大谷深度SRv为0.10～0.50μm，并且在至少一面中通过非接触表面形状测定得到的、1,252×939μm的范围的视场面积中存在的、深度0.05μm以上的谷侧空隙体积为100～10,000μm3。
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